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平面拋光機(jī),顧名思義,是用來清潔物體平面的粗糙部分,以達(dá)到鏡面效果。平面拋光機(jī)操作的關(guān)鍵是盡可能獲得最大的拋光速度,以便盡快去除損傷層。拋光過程分為兩個(gè)階段。粗拋光的目的是去除拋光損壞的層,拋光率應(yīng)該很高。粗糙拋光引起的平面損傷是次要因素,但應(yīng)盡可能小。目的是消除粗糙拋光造成的平面損傷,減少拋光損傷。平面拋光機(jī)平面拋光時(shí),樣品和拋光盤的研磨面應(yīng)絕對(duì)平行、均勻地壓在拋光盤上。同時(shí),樣品應(yīng)沿轉(zhuǎn)盤半徑旋轉(zhuǎn)前后移動(dòng),
以避免拋光織物局部磨損過快。當(dāng)濕度過高時(shí),拋光的磨料效應(yīng)會(huì)減弱,試樣的硬相會(huì)增加,鑄鐵中鋼和石墨相中的非金屬夾雜物會(huì)“拖曳”,潤(rùn)滑效應(yīng)會(huì)減弱,磨削平面會(huì)失去光澤,甚至出現(xiàn)黑斑,輕合金鑄件平面會(huì)出現(xiàn)鑄件損傷現(xiàn)象和黃色現(xiàn)象。粗糙拋光面光滑,但無光澤,在顯微鏡下觀察磨削痕跡均勻精細(xì),待精細(xì)拋光去除。在精密拋光過程中可適當(dāng)提高轉(zhuǎn)臺(tái)的轉(zhuǎn)速,拋光時(shí)間適合粗拋光過程中破損層的去除。拋光的平面像鏡子一樣明亮。這些劃痕在顯微鏡的清晰視野中是看不到的,但在對(duì)比度照明下仍然可以看到。
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